希爾太陽能硅晶片清洗劑針對電子級、太陽能級硅片在IT及太陽能電池領(lǐng)域的特殊清洗要求而研發(fā),該產(chǎn)品為單組分,對動物油、植物 油、礦物油污、懸浮液、碾磨膏的乳化、皂化、洗凈性都有很好的表現(xiàn),對金屬離子有很強的剝離、絡(luò)合、洗凈效果,環(huán)保性好,清洗能力強。
應(yīng)用領(lǐng)域:主要用于太陽能電池硅晶片切割加工后的清洗,以及半導(dǎo)體芯片、晶圓切割后的清洗。
139-2572-1791
√ 專用于硅晶片材質(zhì),潔凈度高
√ 低泡,能滿足高精度的IT要求
√ 槽液使用壽命長,可循環(huán)使用
√ 清洗效果好,無殘留,不影響導(dǎo)電性能
√ 低氣味,不腐蝕,無毒,無閃點,不燃不爆
√ 不含金屬離子,也含磷,符合歐盟RoHS認證要求
專用硅晶片清洗 無花斑白斑 易漂洗 環(huán)保無味不傷手
外觀 | 黃色透明液體 | 密度 | 1.10-1.2g/L |
pH | 13.0-14.0(工作液) | 安全 | 不可燃,無腐蝕 |
環(huán)保 | 無磷,不含鹵素,符合歐盟RoHS要求 |
恒溫清洗/超聲波清洗/平面線清洗
在清洗槽中先加 3/4 槽純凈水,然后按 3~5%濃度加入清洗劑,然后將純凈水加至操作液位,加溫到所需溫度,即可以使用。清洗溫度:50-65℃,處理時間:2~5分鐘。
1、定期檢查槽液溫度、液位,及時補水及相應(yīng)比例補加原液。
2、按規(guī)定時間定期更換槽液。